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UV光氧氧化技术
光氧氧化是指在一定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光氧剂本身不发生变化。
低温等离子净化设备
等离子净化设备又称低温等离子净化设备，在电化总的设计概念下分三个既独立又混合的激发系统，即微波激发区、等离子激发区、极板激发区。每个激发区有它特定的功能，但在原理上有它相似的地方。
净化机理
等离子体化学反应过程中，等离子体传递化学能量的反应过程中能量的传递大致如下:
(1)电场+电子高能电子
(2)高能电子+分子(或原子) >(受激原子、受激基团、游离基团)活性基团
(3)活性基团+分子(原子) +生成物+热
(4)活性基团+活性基团→生成物+热
高能电子也能被卤素和氧气等由电子亲和力较强的物质俘获，成为负离子。这类负离子具有很好的化学活性，在化学反应中起着重要的作用。
沈阳埃里克纳米科技有限公司专注uv光氧等离子除臭净化设备臭气净化装置、供应多规格uv光氧等离子除臭净化设备臭气净化装置、uv光氧等离子除臭净化设备臭气净化装置研发与生产，提供耐高温、耐磨损、耐腐蚀的工业级纳米材料定制解决方案，服务电子、机械、化工等领域，技术先进，品质可靠。以发展前沿科技为核心，在纳米材料前沿科技领域专注发展。坚持集约化经营原则，坚持不进入过度竞争领域的原则，是一家高新技术纳米材料研发企业。埃里克纳米课题组 专注于研究纳米材料合成技术、室内环境除味净化技术的研究，先后取得多项国家立项奖励及发明专利。
